迷你型真空氣氛管式爐采用雙層殼體結構，爐膛材料采用高純氧化鋁，殼體兩邊安裝有鋁制散熱器使得法蘭溫度小于80℃，內爐膛表面涂有1750℃進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐膛潔凈度。 適用范圍：主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛

更新日期：2024-01-16

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1400℃真空管式爐技術參數： 用途概述：管式爐采技術，有單管、臥式、可開啟式、單溫區、雙溫區、三溫區等多種管式爐型。具有安全可靠、操作簡單、控溫度高、保溫效果好、溫度范圍大、溫場均勻性高、溫區多，是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、真空退火用的理想產品. 為實驗單位提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗條件下做元素分析、物理測定、等加熱實驗。并應用在半導體、納米、碳纖維

更新日期：2024-01-16

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可傾斜式高溫管式爐可360度旋轉，管壁內有石英擋片幫助粉料翻轉有助于燒結的更均勻，用于電池正負材料，無強酸堿性粉體材料，顆粒狀物料的實驗室煅燒及干燥，用戶可根據所要燒制的材料選擇在真空下或者氣氛保護下進行燒制。連接氣路管道的情況下依然可以旋轉石英管。

更新日期：2024-01-16

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七溫區真空管式爐1200℃七溫區真空管式氣氛爐可以獨立設置每個溫區的參數，獨立開啟/關閉控制，可同時作業多種不同溫區需求材質。也可將多個溫區設定為同溫度點，即可作為加長的單溫區使用。它延續了單溫區管式爐的經典設計，美觀與實用同在！工程師們巧妙地在合金加熱絲里邊摻入定比例的鉬元素，使得表面溫度可以達到1200℃，大大地延長了該設備的使用壽命。

更新日期：2024-01-16

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1200℃微型開啟式管式爐AFD-1200X-S是小型管式爐，工作限制溫度為1200℃，功率限制為1200W，可配置直徑為1“或2“的高純石英爐管。爐管兩端配置對不銹鋼法蘭，設有機械壓力表、不銹鋼截止閥和寶塔嘴接頭，允許樣品在真空和氣體保護下進行燒結。

更新日期：2024-01-16

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五溫區獨立控制管式爐AFD-1200X-V（定制）采用獨立的溫控裝置，可離開爐體進行溫控操作，通過調節各個溫區的溫度，可以在加熱區內形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區域。本機具有控溫度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。

更新日期：2024-01-16

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